Actualités

Suivez toutes les actualités du laboratoire et de sa communauté.

1 2 3

L'infrarouge moyen inscrit des circuits photoniques sur silicium ?

Le LP3 et l'Instituto de Óptica, CSIC (Madrid) repoussent les limites de l'amorphisation profonde du silicium avec des lasers femtosecondes. Utilisant des impulsions dans l'infrarouge moyen, les chercheurs on découvert une modalité permettant de doubler l'épaisseur maximum démontrée jusqu'ici. Les canaux amorphisés deviennent compatibles avec le transport de modes guidés offrant des perspectives pour la photonique sur sur silicium.

Le plasma laser pour l'étalonnage des spectromètres

Dans le cadre d'un travail collaboratif avec le Cetim Grand Est et la société Lasertechnik Berlin, LP3 a mis en œuvre une procédure d'étalonnage des spectromètres à large bande spectrale. Basée sur la simulation du spectre d'émission d'un plasma produit par irradiation laser d'un échantillon en acier, la procédure facilite l'analyse élémentaire des matériaux par technique LIBS "autocalibrée".

Des applications de photothérapie du cancer avec des nanoparticules produites par laser

Dans le cadre d'un travail collaboratif interdisciplinaire avec l’institut des Biomolécules Max Mousseron (IBMM) (Montpellier, France) et l'Université d'Alexandrie en Egypte, des études in-vitro ont été réalisées sur la cytotoxicité et le potentiel thérapeutique de nanoparticules de silicium (40 nm) générées par laser. Les particules sont particulièrement prometteuses pour de la thérapie photodynamique (PDT) à deux photons avec des applications en cancérologie. Le procédé laser offre une alternative flexible et prometteuse aux méthodes conventionnelles de synthèse de nanoparticules.

Des images X à contraste de phase avec des intensités lasers relativistes

Une étude menée sur l'installation ASUR démontre la faisabilité de réaliser des images à contraste de phase avec une source X de type K-alpha produite dans une large gamme de très hautes intensités lasers. Ces travaux sont essentiels pour accéder aux meilleurs compromis entre qualité et temps d'acquisition des images.

Un paramètre "éclairant" dans la course à l'écriture 3D dans le silicium

Dans un article publié dans Physical Review Research, le chercheurs du LP3 révèlent le rôle crucial joué par le contraste temporel pour générer des modifications à l'intérieur des semi-conducteurs avec des lasers ultrarapides. Ce résultat permet de "démêler" la littérature contradictoire sur le sujet et doit influencer la thématique croissante de la fabrication tridimensionnelle de microsystèmes de silicium par laser.

Des salves ultra-rapides pour modifier l'intérieur du silicium

Des développements expérimentaux au LP3 ont permis de générer des trains d’impulsions ultra-brèves à des cadences térahertz. Ces cadences sont plus rapides que les mécanismes de dissipation de l’énergie dans les matériaux et permettent donc de profiter à plein des processus d’accumulations. Dans des travaux publiés dans la revue Research, le LP3 étudie le potentiel de l’approche pour relever le défi de l’écriture 3D dans le silicium.

Comprendre la réponse des métaux aux impulsions les plus brèves

La physique d’ablation laser est au cœur des activités du LP3. Dans une étude récente, il a étendu ses études d’interaction sur métaux aux durées d’impulsions les plus brèves accessibles en laboratoire (quelques cycles optiques). Les résultats éclairent notamment sur l’importance de l’évolution transitoire de la densité d’états sur le couplage laser avec des métaux de transition comme le tungstène et sur l’applicabilité du modèle de Drude pour décrire leur réponse optique.

Une résolution multiphonique ?

Dans ces travaux, le LP3 révèle que le concept de résolution multiphotonique utilisé en microscopie ne s'applique pas à l'ablation laser femtoseconde. Ces résultats encouragent a se tourner plus largement vers l'UV pour atteindre des résolutions d'usinage similaires à celles démontrées en lithographie.

Des qualités d’usinage laser toujours améliorées

La question de la précision et du contrôle des procédés lasers est au cœur des activités du LP3. Dans une étude récente, le laboratoire établit la relation entre le taux de recouvrement tir à tir et la rugosité des bords de cavités réalisées par différents lasers. Ces résultats sont essentiels pour l’optimisation des performances d’usinage.
S’abonner à la newsletter du laboRecevez chaque semaine les dernières actualités du laboratoire par email.
1 2 3